SPIE Advanced Lithography + Patterning 2027
SPIE 先进光刻与图形化会议 2027
面向光学与 EUV 光刻、图形化材料、工艺集成及计量的 SPIE 学术母会;作者须选择匹配的专题会议投稿,配套展览不另计为论文会议。
投稿要求、完整时间线与官方链接 +
重要时间
2026-09-09 · 时刻 / 时区待核实
2026-11-16 · 时刻 / 时区待核实
2027-01-27 · 时刻 / 时区待核实
2027-02-03 · 时刻 / 时区待核实
2027-02-19 · 时刻 / 时区待核实
未公布 / 待核实
如何投稿
- 技术审查摘要为 200–300 词纯文本,节目摘要为 50–150 词;另交不超过 2 页的扩展摘要 PDF,包含作者、单位和评审所需图表。
- 通过当届专题页选择一个适配会议,再用 SPIE 账号完成提交;同一摘要只提交一次。报告人简介限 1000 字符(含空格)。
- 稿件须有原创研究或开发内容;口头/海报安排由会议主席决定。上传全文或海报前,联系作者或报告人须先注册。
报告与发表
符合出版规则并实际报告的全文、报告或海报可在会后收入 Proceedings of SPIE / SPIE Digital Library,仍须委员会批准。官网列 Ei Compendex 等检索合作,不保证单篇实际入库。
举办地点
具体场馆待当届官方页面核实
本届提醒
普通摘要截止 2026-09-09 已过;官网仍列征稿入口并称部分专题可能接受晚投稿,需向具体专题确认,不视为统一 PDP。注册仅公布 2026 年 11 月开放,截止未知;全文/海报上传计划 2026-12-21 开启。日期表未给时刻或时区,不补造。